奖种：科学技术进步奖
项目名称：第三代半导体用高均匀高致密TaC涂层石墨件制备技术及应用
提名单位： 长沙经济技术开发区
提名等级： 一等奖
主要完成人：
  1. 戴煜
  2. 谭兴龙
  3. 张洁
  4. 吴建
  5. 张池澜
  6. 许鹏
  7. 杨树
  8. 王艳艳
  9. 林源
  10. 肖乐
  11. 刘志坚
  12. 戴斌
主要完成单位：
  1. 湖南顶立科技股份有限公司
  2. 湖南三安半导体有限责任公司
  3. 南昌大学
  4. 湖南中科顶立技术创新研究院有限公司
湖南省科学技术奖励工作办公室